ASML našel způsob jak radikálně zrychlit výrobu čipů bez nutnosti stavět nové továrny

Současný boom umělé inteligence a neustálý tlak na výkonnější elektroniku vytvářejí bezprecedentní zátěž na globální dodavatelské řetězce. Největší světoví producenti polovodičů v čele s tchajwanským gigantem TSMC čelí obrovským kapacitním problémům a nestíhají zcela pochopitelně uspokojovat poptávku technologických firem.

Nizozemská společnost ASML proto přichází s elegantním řešením aktuální krize. Inženýři z Veldhovenu objevili funkční metodu pro drastické posílení výkonu u svých nejpokročilejších litografických systémů. Zástupci firmy potvrdili schopnost dlouhodobě generovat světelný paprsek o síle jednoho kilowattu namísto dosavadních šesti set wattů.

Právě tato inovace má potenciál zrychlit celkovou produkci o neuvěřitelných 50 % během necelé dekády.

Fyzikální princip celého vylepšení spočívá v masivním zintenzivnění světelného zdroje. Extrémní ultrafialové záření vzniká bombardováním kapek cínu vysoce výkonným laserem ve vakuové komoře, což vytváří plazmu emitující požadované světlo. Zvýšený výkon znamená mnohem rychlejší průchod křemíkových desek samotným strojem.

Integrace výkonnějšího zářiče do existující infrastruktury proběhne formou speciálních aktualizačních balíčků. Zákazníci se tak vyhnou nutnosti kupovat zcela nové stroje, jejichž cena se běžně pohybuje kolem 200 mil. dolarů (přibližně 4,7 mld. Kč). Starší generace zařízení sice narážejí na nepřekonatelné tepelné limity, avšak novější modely a chystané systémy s vysokou numerickou aperturou jsou na podobnou zátěž architektonicky připraveny.

Implementace kilowattového zdroje ovšem přináší i zcela nové inženýrské výzvy, se kterými se bude muset dodavatelský řetězec vypořádat. Skokové navýšení výkonu klade extrémní nároky na chlazení, stabilní dodávky obrovského množství elektrické energie a plynulý průtok vodíku, jenž chrání drahocennou optiku před znečištěním.